当阳下的半导体制造，如何优化光刻过程中的曝光精度？
在半导体制造的复杂工艺中，光刻作为关键一环，其曝光精度直接决定了芯片的最终性能和良率，而“当阳”这一关键词，不禁让人联想到阳光的直射与光线的精准控制，这恰是光刻过程中的一个重要挑战。在光刻过程中，曝光机的光源通过一系列透镜系统，将电路图案精...
在半导体制造的复杂工艺中，光刻作为关键一环，其曝光精度直接决定了芯片的最终性能和良率，而“当阳”这一关键词，不禁让人联想到阳光的直射与光线的精准控制，这恰是光刻过程中的一个重要挑战。在光刻过程中，曝光机的光源通过一系列透镜系统，将电路图案精...