青光眼与半导体制造中的光暴露风险，如何平衡光明与安全？

在半导体制造的精密世界里，光刻技术是塑造微小电子元件的关键步骤，这一过程中所使用的高强度光源，如深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV），却可能对操作人员的眼睛健康构成潜在威胁，当我们将目光转向青光眼这一常见的眼科疾病时，不禁要问：在追求技术进步的同时，我们是否忽略了与光暴露相关的健康风险？

青光眼是一种由于眼内压升高导致的视神经损伤和视野缺损的疾病，其症状往往在早期不易察觉，但长期暴露于高强度、短波长的光线，如DUV和EUV，已被研究证实与青光眼的发病风险增加有关，半导体工厂中，虽然有严格的防护措施和操作规范，但任何一次疏忽都可能成为健康隐患的导火索。

为了平衡光明与安全，半导体制造企业需采取更加前瞻性的策略：持续优化光刻设备的防护设计，确保光源的稳定性和安全性；加强员工培训，提高对青光眼风险的认识和自我保护意识；定期进行眼部健康检查，早发现、早干预；探索新型光源技术或工艺改进，以减少对操作人员眼睛的潜在伤害。

在半导体制造的征途中，我们不应让“光明”成为健康的“暗礁”，通过科技与人文的深度融合，我们能够为每一位在微米级战场上奋斗的“光刻师”保驾护航，让他们的未来既充满光明又安全无虞。